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薄膜制备技术主要包括PVD技术和CVD技术。PVD溅射镀膜是在真空环境下,通过电压和磁场的共同作用,以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击,致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成各种功能薄膜,薄膜质量的好坏直接依赖于靶材的质量。
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